Lithography

BINA מציעה מערך כלי ליתוגרפיה מתקדמים, ובהם ליתוגרפיה אופטית (Photolithography) ליתוגרפיית אלקטרונים (Electron Beam Lithography)  וליתוגרפיית לייזר, ליצירת מבנים בקני מידה מיקרוניים וננומטריים ברמת דיוק גבוהה במיוחד.

טכניקות הליתוגרפיה הרב־תכליתיות שלנו תומכות במגוון רחב של יישומי מחקר ופיתוח, לרבות מיקרואלקטרוניקה, מערכות MEMS,  ננו־פוטוניקה וחומרים מתקדמים.

המתקן פתוח לשימוש האקדמיה והתעשייה, וכולל ליווי מקצועי, הדרכה מומחית וגישה מלאה לחדרי הניקיון.

ליצירת תבניות מדויקות ברמה הגבוהה ביותר, צרו קשר- gr.biunano@biu.ac.il