דילוג לתוכן העיקרי
דילוג לתפריט ניווט ראשי
תפריט משני
אוניברסיטת בר-אילן
English
תפריט
המכון לננו טכנולוגיה וחומרים מתקדמים
פייסבוק
Linkedin
חיפוש
חיפוש
חיפוש
אודות
אודות המכון
מיקום ודרכי הגעה
הצוות שלנו
ועדה מדעית
דוחות שנתיים
חוקרים
סגל אקדמי
פרסים לחוקרים
תחומי מחקר
ננו חומרים
אנרגיה
ביורפואה
אלקטרו מגנטיות וספינטרוניקה
פוטוניקה
קלינטק
ביוקונברג’נס
קוונטום
פרסומים מחקריים
אירועים וחדשות
חדשות
אירועים
יחידות שירות
יחידת אפיון
XRD
RAMAN
Contact Angle
AFM Lab
AFM Icon
AFM Multimode V
Dimension FastScan Bio
IBA
ERDA
Ion channeling analysis
NRA
PIXE
RBS
Ion Implanter
Microscopy
E-SEM
HR-SEM
FIB
TEM
HR-TEM
Coming Soon
Preparation of biological samples
High Pressure Freezing
Ultra Microtome
Cp3 cryoplunge3
Freeze
LEICA EM ACE
Leica EM Cryo CLEM
יחידת פבריקציה
Facility
Clean Rooms
Lithography
E-Beam
Direct Laser Lithography
MLA
Mask Aligner
3D Printing
3D Bioprinter, BIO X6 Cellink
Nano Scribe
Deposition
ALD
E-BEAM Evaporation system
Ion Beam Assist system
PVD
What's new - Coming Soon
Etching
ICP-RIE
Inspection
LEXT 3D optical profiler
Spectroscopic Reflectometer
Woollam Spectroscopic Ellipsometer
XRF
Packaging
Dicing Saw
Stylus Profiler
Wafer Bonder
יחידת סינתזת חומרים מתקדמים
סטודנטים
טפסים
סטודנטים שלנו בחדשות
אירועי סטודנטים
משרות עבודה
יצירת קשר
Etching
English
הדפסה
Dry Etch ICP-RIE
תאריך עדכון אחרון : 15/02/2024
התקשר/י
יצירת קשר
מיקום
