דילוג לתוכן העיקרי דילוג לתפריט ניווט ראשי
תפריט משני
  • ניוזלטר
  • גלריה
  • דרושים
לאתר בר-אילן
English
המכון לננו טכנולוגיה וחומרים מתקדמים אוניברסיטת בר-אילן
המכון לננו טכנולוגיה וחומרים מתקדמים
חיפוש
  • אודות
    • אודות המכון
    • מיקום ודרכי הגעה
  • סגל
    • סגל אקדמי
    • סגל מינהלי
  • מרכזי מחקר
    • ננו חומרים
    • אנרגיה
    • ביורפואה
    • אלקטרו מגנטיות וספינטרוניקה
    • פוטוניקה
    • Cleantech
    • Bioconvergence
    • קוונטום
  • פרסומים ופרסים
    • פרסומים
    • פרסים
  • מרכז ציוד מדעי
    • מיקרוסקופיה אלקטרונית
      • E-SEM
      • HR-SEM
      • Helios 5UC, Thermo-Scientific
      • Orion NanoFab, Zeiss
      • Analytical TEM
      • HR-TEM
      • Cryo TEM
      • High Pressure Freezing- Leica EM ICE
      • Ultra-microtome Leica EM UC7
    • אנליזת פני שטח
      • AFM Lab
        • AFM Icon
        • AFM Multimode V
        • Dimension FastScan Bio
      • IBA Lab
        • ERDA
        • Ion channeling analysis
        • NRA
        • PIXE
        • RBS
        • Ion Implanter
      • XRD
      • Contact Angle Measuring and contour analysis Instrument
    • ננו פבריקציה
      • E-Beam
      • Evaporation & Sputtering
      • Photo Lithography
      • Pulse Laser Deposition
      • RIE
      • MFM
      • PPMS
  • קורסים ללמידה מתוקשבת
    • קורסים ללמידה מתוקשבת במסגרת תוכנית "טמפוס"
    • IPEN
    • ננואל (NanoEl)
  • סטודנטים
יצירת קשר
מרכז ציוד מדעי תפריט
  • מיקרוסקופיה אלקטרונית
    • E-SEM
    • HR-SEM
    • Helios 5UC, Thermo-Scientific
    • Orion NanoFab, Zeiss
    • Analytical TEM
    • HR-TEM
    • Cryo TEM
    • High Pressure Freezing- Leica EM ICE
    • Ultra-microtome Leica EM UC7
  • אנליזת פני שטח
    • AFM Lab
      • AFM Icon
      • AFM Multimode V
      • Dimension FastScan Bio
    • IBA Lab
      • ERDA
      • Ion channeling analysis
      • NRA
      • PIXE
      • RBS
      • Ion Implanter
    • XRD
    • Contact Angle Measuring and contour analysis Instrument
  • ננו פבריקציה
    • E-Beam
    • Evaporation & Sputtering
    • Photo Lithography
    • Pulse Laser Deposition
    • RIE

Pulse Laser Deposition

English
שלחו לחבר

    

מפרטים
  • 248nm KrF2 excimer laser
  • Up to 400 mJ pulse energy
  • 4" sample holder, heatable up to 850°C
  • Deposition from up to 6 targets
  • Deposition of homogeneous thickness
  • Deposition of compositional gradients
Pulse Laser Deposition

More on PLD, Neocera

Book your order for PLD work

תאריך עדכון אחרון : 30/06/2021

כניסה לעורכי האתר

'כל הזכויות שמורות: המכון לננו טכנולוגיה וחומרים מתקדמים | אוניברסיטת בר אילן רמת גן 5290002 | טלפון: 03-5317067' יצירת קשר

פיתוח: אגף תקשוב, אוניברסיטת בר-אילן
הצהרת נגישות

התקשר/י דוא"ל מיקום