Pulse Laser Deposition

English שלחו לחבר

    

מפרטים
  • 248nm KrF2 excimer laser
  • Up to 400 mJ pulse energy
  • 4" sample holder, heatable up to 850°C
  • Deposition from up to 6 targets
  • Deposition of homogeneous thickness
  • Deposition of compositional gradients

תאריך עדכון אחרון : 25/05/2016